エレクトロニクス・薄膜
薄膜・半導体向けのスパッタリングターゲット、蒸着材料、高純度金属。
ターゲット
純金属、合金、セラミックス、酸化物、カルコゲナイドのターゲット。ボンディングの有無を問わず、各種装置に対応します。
高純度金属
ガリウム、インジウム、テルル、銅など、4N〜7Nの20元素。
金属粉末
ITOを含むナノ粉末・酸化物粉末。
薄膜・半導体向けのスパッタリングターゲット、蒸着材料、高純度金属。
純金属、合金、セラミックス、酸化物、カルコゲナイドのターゲット。ボンディングの有無を問わず、各種装置に対応します。
ガリウム、インジウム、テルル、銅など、4N〜7Nの20元素。
ITOを含むナノ粉末・酸化物粉末。